AI晶片需求超越擴產計畫,ASML上修2026年銷售預測

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ASML Raises 2026 Sales Forecast as AI Chip Demand Outruns Expansion Plans

銷售創紀錄,設備短缺問題日益加劇

ASML於10月14日連續第三季上修2026年銷售預測,同時警告,2027年和2028年規劃的產能仍不足以滿足客戶需求。部分晶片製造商已表示有意訂購2029年和2030年所需設備,讓先進人工智慧晶片製造設備的規劃期進一步拉長。

目錄
  1. 銷售創紀錄,設備短缺問題日益加劇
  2. 財務表現有哪些變化?
  3. 升級設備助客戶提高晶片產量
  4. 為何原訂30%的擴產幅度已不敷需求
  5. 客戶規劃採購延伸至2030年
  6. 這項公告對台灣的意義
  7. High NA帶來第二條投資時程
  8. 投資人權衡成長前景與交付限制
  9. 中國銷售面臨新的政策風險
  10. 重點整理

這家總部位於荷蘭費爾德霍芬的公司,截至9月27日的季度淨銷售額達116億6200萬歐元,較去年同期增加約55%。淨利達49億6000萬歐元,毛利率則升至57.5%。這項公告發布前一天,ASML的重要客戶台灣積體電路製造公司(TSMC)預定於10月15日公布自身業績。

ASML的第三季財報將全年銷售額預測訂為440億至450億歐元,並把預測區間下限從430億歐元上調。公司預期全年毛利率約為56%,第四季銷售額則為142億至152億歐元。

ASML在晶片產業占有關鍵地位,因為它是全球唯一生產極紫外光微影系統(EUV)的廠商。這些設備利用光線在矽晶圓上印製極小的電路圖案;晶片便是在這種圓盤上製造。晶片製造商需要這類設備,才能擴大最先進半導體的產量。

這份財報呈現三項相互關聯的發展:工廠採購更多新設備,既有客戶增加升級支出,設備需求也延伸至更遠的未來。ASML目前正設法提高可交付設備的數量,也提升客戶從已安裝設備取得的產出。

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財務表現有哪些變化?

ASML季度銷售額從第二季的93億2600萬歐元升至第三季的116億6200萬歐元,增幅約25%。新微影系統銷量從86台增至113台,二手系統銷量則從5台增至8台。公司本季也售出17台EUV系統。

淨利從前一季的29億1800萬歐元升至49億6000萬歐元,增幅約70%。與去年同期相比,獲利成長約134%。基本每股盈餘從7.59歐元升至12.95歐元。

獲利比倫敦證券交易所集團(LSEG)彙整的分析師共識預估41億歐元高出約8億6000萬歐元,或21%。營收接近市場預期,但略低於LSEG預估的117億2000萬歐元。

ASML的獲利也包括投資其他公司的5億1000萬歐元收益。解釋獲利為何快速成長時,除了設備交付量和服務營收增加,也應將這筆收益納入考量。

毛利達67億歐元,高於前一季的50億3500萬歐元。毛利率衡量扣除提供產品與服務的直接成本後,銷售收入還剩下多少。ASML毛利率為57.5%,代表每100歐元銷售額扣除相關直接成本後,約保留57.50歐元,尚未計入研究、行政和稅務等費用。毛利率較第二季的54%增加3.5個百分點。

升級設備助客戶提高晶片產量

ASML的裝機基礎管理業務本季營收為32億8900萬歐元,高於前一季的27億6200萬歐元。這項業務涵蓋客戶既有設備的服務與升級。

這項業務營收增加約19%,占季度總營收約28%。執行長克里斯多福.福克特表示,生產力升級需求推升這項業務的表現,使其超越公司預期,也帶動毛利率上升。

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對等待添購設備的晶片製造商而言,改善既有系統是提高產量的另一種途徑。生產力升級可讓設備處理更多晶圓或提升運作效率,使工廠能從已安裝的機台提高產出。

ASML在交付新設備的同時,也積極推動這類升級。財報顯示,客戶已大幅投入這項方案;在公司持續擴大製造能力之際,升級業務也成為可觀的營收來源。

為何原訂30%的擴產幅度已不敷需求

ASML的擴產計畫涵蓋傳統EUV設備(稱為低數值孔徑EUV)和浸潤式深紫外光設備(稱為DUV)。DUV設備採用不同波長的光,在許多晶片製造流程中仍扮演重要角色。

公司正式公告說明,先前計畫是在2027年將這兩類設備的產能較2026年提高30%,並評估在2028年再提高30%。傳統EUV的擴產計畫,將使這類系統的年出貨目標達到約85台。

ASML總裁暨執行長福克特表示,客戶上修預測、訂單動能增強,改變了公司對設備供應需求的評估。

今年客戶需求能見度很高,訂單動能也逐季增強。我們現在預期,目前規劃的2027年和2028年供應量都無法完全滿足客戶需求。

因此,ASML正在評估2028年產能是否應超越先前公布的30%增幅。公司尚未公布修訂後的產能目標,也未說明何時會作出決定。

ASML也正設法縮短設備在無塵室開始生產到完成出貨之間的時間。公司已開始在荷蘭興建第二座工業園區,第一期預定於2029年完工。加快生產和增設廠區,分別著眼於同一問題的不同面向:更早將更多設備交到客戶手中。

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客戶規劃採購延伸至2030年

ASML的先進設備從下單到交貨需要一年以上。因此,晶片製造商必須在產能需求出現前提早安排採購,使ASML的需求預測成為觀察工廠投資計畫的重要窗口。

福克特表示,客戶上修設備需求預測,主要是因為預期人工智慧支出規模大、持續時間長。他在公司正式財報聲明中,談到這些預期如何延伸至更後面的年份。

鑑於客戶對需求的能見度,有些客戶表示有意向我們下單,採購時間甚至延伸至2029年,乃至2030年。

ASML將這些年份的討論描述為客戶有意下單。下一個商業階段是由客戶敲定採購和交貨時程。公司財報列出的未來銷售風險包括訂單時程、取消訂單、客戶投資計畫,以及零組件和人力供應情形。

從眼前的財報發布到數年後的工廠與技術計畫,時程如今拉得更長:

  • 2026年10月14日:ASML公布第三季業績,並安排中歐時間15:00舉行投資人電話會議。
  • 2026年10月15日:TSMC預定公布季度業績。
  • 2026年11月4日:ASML計畫發放每股普通股1.88歐元的中期股利。
  • 2027年:ASML計畫將傳統EUV和浸潤式DUV系統的產能提高30%。
  • 2028年:ASML正評估超越先前計畫的擴產幅度;三星目標以High NA EUV生產晶片。
  • 2029年:ASML第二座工業園區第一期預定完工。
  • 2030年:TSMC計畫將High NA EUV導入先進晶片製造。

這項公告對台灣的意義

第三季ASML新微影設備出貨的最大目的地仍是台灣。這使台灣成為ASML財報所述擴產計畫的核心,也讓TSMC 10月15日的業績說明會成為市場眼前關注焦點。

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全球最大晶圓代工廠TSMC替其他公司製造設計好的晶片。TSMC的工廠投資決策,會為整條半導體供應鏈帶來設備、模組、材料與服務需求。

ASML對需求的樂觀看法,顯示客戶將持續投資,其中包括TSMC、三星、英特爾、SK海力士和美光。台灣是ASML設備出貨最大目的地,為這幅產業圖像增添了地理上的重點;TSMC自身的財報則將提供下一個機會,讓公司說明生產與投資計畫。

ASML的擴產也帶動台灣供應商。盟立國際為ASML的EUV設備製造子系統模組;家登及其子公司則投資製造光罩搬運設備。更多微影設備意味著需要更廣泛的生產網絡,讓工作量延伸至ASML自有組裝廠以外。

High NA帶來第二條投資時程

ASML最先進的High NA EUV設備每台約4億美元。數值孔徑描述光學系統收集光線並解析精細細節的能力;數值孔徑越高,設備就越能印製更小的電路圖案。

三星和TSMC已承諾採用這項技術,據報兩家公司規劃分別於2028年和2030年開始生產。英特爾則在9月表示,已使用High NA EUV處理超過100萬片晶圓。

TSMC的規劃還包括稍後推動的大尺寸光罩計畫。公司打算在2031年前建立12吋光罩試產線,為2033年在先進製程中使用相關High NA微影系統做準備。因此,TSMC所稱的2030年導入目標,與較晚推動的光罩計畫屬於不同階段的技術規劃。

家登的子公司正為下一代光罩開發儲存、傳輸和自動化設備。光罩承載微影製程使用的電路圖案,搬運時需要能避免污染與損壞的設備。

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家登預計於2027年完成日本久留米廠建設,之後依客戶需求逐步開始量產。其位於亞利桑那州、加工航太與半導體零組件的產線,預計於2026年第四季啟用。初期業務將以航太需求為主,未來則有機會擴大承接半導體製造相關工作。

投資人權衡成長前景與交付限制

公布業績後,ASML股價在阿姆斯特丹早盤上漲約2%。投資人看到全年預測上修,也看到客戶規劃提前數年採購設備的證據;但同時也必須面對公司交付速度所受的限制。

財富管理公司Quilter Cheviot科技研究主管班.巴林傑表示,強勁業績大致符合市場預期。

ASML交出亮眼的數字,但實際上,這只是趕上市場原本就已形成的預期。

巴林傑也指出,近期投資循環與更後期的發展有所不同。

持續成長將延續至2027年和2028年,不過市場將開始追問,2029年起是否會出現景氣下行跡象,以及這對ASML會有什麼影響。

金融顧問集團deVere執行長奈傑爾.格林著眼於人工智慧投資面臨的實際限制。他指出,設備供應、電網接電、電力設備,以及資料中心營運人力短缺,都可能拖延專案並延後投資回報。他也表示,提早確保設備交付時程的公司,可能比競爭對手更具優勢。

ASML自身提出的警訊是設備供應受限;格林的觀點則將討論延伸至啟用人工智慧基礎設施所需的其他資源。對投資人而言,支出承諾與建設速度都很重要:工廠或資料中心必須等到所需設備和服務到位,才能開始創造價值。

中國銷售面臨新的政策風險

ASML維持原先預測,認為中國市場2026年約占公司總業務的20%。公司目前已受限制,不得向中國銷售EUV設備及部分DUV系統;中國製造商則正努力開發本土設備。

美國一項名為《Match Act》的法案草案將進一步限制DUV銷售,以及為已安裝在中國的設備提供服務。參議員彼得.里基茨與安迪.金提出這項提案,要求荷蘭和日本在150天內讓出口規定符合華盛頓要求,否則美國可單方面採取行動。

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ASML財務長羅傑.達森反對這項提案,認為若法案通過,可能加速中國開發競爭技術。他在業績公布後表示,希望美國議員改變立場。

我樂觀相信,理性終將占上風。

近年來,中國約占ASML浸潤式DUV設備銷量的70%。這項數字是指單一設備類別的銷售台數;20%的預測則是中國市場占公司總業務的比重。擬議中的服務限制也將涵蓋客戶已購置的設備,因此這場政策辯論也與ASML持續性服務營收息息相關。

ASML預測第四季毛利率約為57%,研究與開發支出約12億歐元,銷售與管理費用則為4億歐元。公司第三季買回約41億歐元自家股票,截至期末持有現金、約當現金及短期投資127億3500萬歐元。截至9月27日的財務報表未經審計。

重點整理

  • ASML本季銷售額為116億6200萬歐元,淨利49億6000萬歐元,毛利率57.5%。
  • 公司將2026年銷售預測上修至440億至450億歐元,這是連續第三季上調。
  • ASML表示,2027年和2028年的設備供應計畫將無法滿足客戶需求。
  • ASML正評估進一步提高2028年產能;部分客戶則表示有意訂購2029年和2030年所需設備。
  • 服務與升級業務營收達32億8900萬歐元,協助客戶提高既有設備產量。
  • 台灣是新微影設備出貨的最大目的地,TSMC預定於10月15日公布業績。
  • High NA技術導入和供應商擴產,讓投資時程延伸至下一個十年。
  • ASML預期中國市場2026年將占公司業務的20%,並反對美國限制DUV銷售與設備服務的提案。
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